Z-Achsen Linear-Piezopositionierer Serie PZ

Eigenschaften der PZ Serie

  • genaue parallele Bewegung auf der z-Achse
  • dank Festkörpergelenke frei von mechanischem Spiel
  • einfach mit anderen Piezo-Systemen kombinierbar
  • Präzisions-Bohrlöcher zur genauen Justierung
  • Verstellweg: 8 µm bis 400 µm
  • Resonanzfrequenz: bis 3 kHz
  • Wiederholbarkeit: <5 nm
  • Versionen mit kapazitiver Positionssensorik (CAP)

Produktübersicht der Serie PZ

PZ 8 D12 SG

 

PZ 8 D12– Piezo Positionierantrieb

  • Verfahrbereich in Z: bis zu 8 µm  
  • Abmessung: 21x26x15 mm³
  • Kompatibel mit PXY D12

 

Antriebselement ohne Kopf-/Fußplatte

PZ 10

 

PZ 10 – Piezo Positionierantrieb

  • Verfahrbereich in Z: bis zu 10 µm
  • Abmessung: 36.5x36.5x15 mm³

 

Paralleler Z-Hub-Antrieb


PZ 16 CAP

 

PZ 16 CAP - Positioniertisch-Serie

  • Verfahrbereich: bis zu 22 µm; CAP-Sensor
  • Größe: 45x45x30 mm3

 

Z-Hubtisch mit Kopf-/Fußplatte

PZ 20 D12

 

PZ 20 D12– Piezo Positionierantrieb

  • Verfahrbereich in Z: 20 µm in Z-Achse
  • Abmessung: 21x26x15 mm3
  • Kompatibel mit PXY D12

 

Antriebselement ohne Kopf-/Fußplatte


PZ 38

 

PZ 38 - Positioniertisch-Serie

  • Verfahrbereich: bis zu 38 µm; Option Sensor 
  • Größe: 25x25 bis 40x40 mm² 

 

Z-Hubtisch mit Kopf-/Fußplatte

PZ 100

 

PZ 100 - Positioniertisch-Serie

  • Verfahrbereich bis: 100 µm 
  • Größe: 40x40 mm2
  • Option: Sensor 

 

Z-Hubtisch mit Kopf-/Fußplatte


PZ 200 OEM

 

PZ 200 OEM - Piezo Antriebselement

  • Verfahrbereich: bis zu 200 µm 
  • Abmessung: 50x17 mm2
  • Option: Sensor 

 

Z-Hub Linear-Antrieb zur Integration

PZ 250 SG

 

PZ 250 SG - Z-Axis Translation Stages

  • Verfahrbereich bis: 350 µm (open loop)
  • Hubtisch für Proben in der Fokusebene

 

Basisplatte zur Integration im Mikroskop


PZ 250 CAP WL

 

PZ 250 CAP WL - Wafer-Positionierer

  • Verfahrbereich bis: 350 µm (ol)/ 250 µm (cl)
  • Positionieren von Wafern aller Art mit Durchmessern bis 12“

 

Hochgenaue Positionierung von Wafern in Inspektionssystemen

PZ 300 AP

 

PZ 300 AP - Mikroskoptisch

  • Verfahrbereich: bis zu 300 µm inkl. Sensor 
  • Für Zeiss, Olympus, Nikon, Leica usw. 
  • Innenöffung und Probehalter Multiwell 

Ergänzung zu motor. Mikroskoptischen


PZ 400

 

PZ 400 – Positionertisch

  • Verfahrbereich: bis zu 400 µm 
  • Abmessung: 48x52 mm2
  • Option: Sensor 

 

Z-Hubtisch mit Kopf-/Fußplatte

PZ 400 OEM

 

PZ 400 OEM – Piezo-Antriebselement

  • Verfahrbereich: bis zu 400 µm
  • Abmessung: 66x24 mm2
  • Option: Sensor 

 

Z-Hub Linear-Antrieb zur Integration


PZ 700 SI

PZ 700 SI

PZ 700 SI

 

PZ 700 SI - Piezo-Positionierantrieb

  • Verfahrbereich: bis zu 700 µm
  • Größe: 120x112x28 mm³

 

Z-Achsen-Positionierer mit großem Hub


Zusammenfassung zur Serie PZ

Die Z-Achsen Linear-Piezo-Positionierer der Serie PZ werden zur hochparallelen Bewegung von Proben, Optiken oder anderen Instrumenten in der Z-Achse angeboten. Die Festkörpergelenke der hochauflösenden Positioniersysteme sind extra so konzipiert, dass bei einer Bewegung in der Z-Richtung, auch unter zusätzlicher Last, dynamisch positioniert werden kann und der Versatz minimiert ist.

Generell sind die Z-Achsen Linear-Piezo-Positionierer der Serie PZ im "Stage-Design" mit Kopf- und Grundplatte ausgerüstet. Die Piezo-Antriebe der Serie PZ OEM und PZ D12 hingegen sind reine Antriebselemente, die zur schnellen Integration in Kundensysteme ausgelegt sind.

Die Serie PZ ist konzipiert, um leichtere Komponenten, wie Spiegel und Laserdioden oder ähnliche optische Bauteile im Bereich von Mikrometern langzeitstabil zu positionieren. Weitere typische Einsatzgebiete liegen im Bereich Justage und Montage in der Halbleitertechnik und Elektronik, sowie für Aufgaben in der Messtechnik und Qualitätsprüfung und auch der Mikrobiologie.

Verfügbar sind diese Systeme neben den speziellen OEM Varianten  auch in speziellen Versionen für den Vakuum- und Tieftemperaturbereich. Um Effekte wie Positionsdrift und Hysterese zu vermeiden, können die Piezoaktoren wahlweise mit DMS oder kapazitiver Positionssensoren ausgerüstet werden. Somit wird neben einer hohen Positionsstabilität zugleich eine Reproduzierbarkeit im sub-nm Bereich gewährleistet.


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